全自動光刻機又名掩模對準曝光機,曝光系統(tǒng),光刻系統(tǒng)等,常用的光刻機是掩膜對準光刻。一般的光刻工藝要經(jīng)歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對準曝光、后烘、顯影、硬烘、刻蝕等工序。在硅片表面勻膠,然后將掩模版上的圖形轉(zhuǎn)移光刻膠上的過程將器件或電路結(jié)構(gòu)臨時“復制”到硅片上的過程。
全自動光刻機樣片調(diào)平機構(gòu)包括球座和半球。調(diào)平過程中首先對球座和半球通上壓力空氣,再通過調(diào)焦手輪,使球座、半球、樣片向上運動,使樣片與掩模相靠而找平樣片,然后對二位三通電磁閥將球座和半球切換為真空進行鎖緊而保持調(diào)平狀態(tài)。全自動光刻機為了全方位工作,需要360°旋轉(zhuǎn),這就要用到滑環(huán),默孚龍推薦使用MFO系列光纖滑環(huán)。
默孚龍MFO系列光纖滑環(huán)主要特點:
1.連接接頭有G1/8、G1/4 2種規(guī)格
2.插入損耗小,轉(zhuǎn)速高
3.無接觸、無摩擦,壽命長,單芯可達1億轉(zhuǎn)以上
4.體積小、重量輕,密封等級高
5.光纖傳遞信號,無泄密,無電磁干擾,可以遠距離傳輸
全自動光刻機作為芯片制造的核心設備,長期被國外少數(shù)國家壟斷,近年國產(chǎn)全自動光刻機得到大力發(fā)展,作為全自動光刻機的核心默孚龍MFO系列光電滑環(huán)不負使命,為“中國芯”做出自己的貢獻,得到廣大芯片制造商好評。
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